디스플레이나 반도체 포토공정 과정에서 진행되는 과정 중 하나인 '현상 공정'은 사진을 현상하는 것과 유사한 방식입니다.

포토공정 참고: http://news.samsungdisplay.com/21553

포토공정 과정 중 PR(감광액, PhotoResist) 물질에 빛을 쏘아 빛을 받은 영역과 그렇지 않은 영역이 구분되면, 현상액(Developer)을 통해 원하지 않는 부분을 선택적으로 제거하는 것을 현상 공정이라고 합니다.

한마디로 노광, 비노광이 구분된 PR 물질을 현상(Development) 하기 위해 알카리 등의 현상액에 담가 원하는 색, 모양 등을 구현하는 것입니다.

감광 물질은 빛에 반응에 따라 Positive와 Negative 방식으로 분류됩니다.

Positive 방식은 빛에 노출된 부분이 현상액에 녹기 쉽게 화학구조가 변하는 것으로, 현상액을 투입할 경우 노광 과정에서 빛을 받은 부분이 제거됩니다.

Negative 방식은 반대로 빛에 노출된 부분의 감광물질이 더욱 단단해지는 것으로 빛을 받지 못한 부분을 현상액으로 제거하는 것입니다.

현상 결과는 노광 시간과 Prebake 온도, 현상액 온도, 현상 온도, 현상 시간 등에 의해 결정됩니다.

현상 방법으로는 Nozzle로 현상액을 분사하는 스프레이 방식, 현상액을 기판 위에 공급해 표면 장력을 이용하는 Puddle 방식, 기판을 Bath에 담가 현상하는 Dip 방식이 있습니다.